当前位置:主页 > 新闻中心 >

国初科技新型脱气膜去除二氧化碳技术

发表日期:2023-01-15 22:19文章编辑:国初科技浏览次数: 标签:    

据搜狐新闻1月15日讯,在电厂、半导体行业中,对纯水的要求高,水中溶解的二氧化碳会影响水质,在初纯水EDI前去除二氧化碳可使产水水质从1.0兆提升至 18.0兆,可大大提高EDI产水的硅、硼去除率,给终端抛光混床减轻压力的同时,大幅提高终端水质。

特别是8英寸以上半导体晶圆工业用纯水,对水中硅、硼的含量要求更高,因为纯水在清洗硅片时,水中的硅在硅片表面上沉积,将影响热氧化层的质量,产生表面缺陷,造成器件良品率降低。为了能使终端纯水水质达到生产要求,需要在初纯水端就要对水中硅、硼进行严格控制,否则终端抛光混床难以实现。

制药行业同样需要超纯脱气水,溶解的气体会影响生产效率和产品质量。同时,制药行业需要将工艺用水中的二氧化碳控制在很低的水平,以便控制水的导电性和PH值。

脱气膜可以减少半导体、制药等行业生产工艺用水中的二氧化碳,降低二氧化碳浓度,以提升电去离子工艺效率。

使用膜法去除水中的二氧化碳,是让水在中空纤维膜管内流动,改变管外气体的压力情况,如通过负压或增压(加纯N2等)的方法,减小氧气、二氧化碳在水的溶解度,从而达到去除的效果。这是膜分离技术一种新的应用方式,是新型的气/液膜分离工艺过程。根据不同的脱碳精度要求,采用抽真空、空气气吹扫或抽真空+空气气吹扫这三种不同的运行模式,可将水中溶解性的二氧化碳脱除低至0.5ppm。

同时,脱气膜除了从液体中去除二氧化碳外,也可向液体添加二氧化碳,并具有精确性和可预测性。在半导体生产中,由于水在砂轮划片工艺中用于润滑、冷却和碎屑的冲洗。为避免芯片沾污,应使用超纯水。通常,需在水中通入少量高纯二氧化碳气体起泡以减少静电损伤,但应控制二氧化碳的通入量。使用脱气膜加入工艺流程,确保达到精确的预期浓度,可改善划片效果,从而节省时间及简化生产工艺。

国初科技(厦门)有限公司自成立以来,以膜分离技术为核心,致力于新型分离技术推广,不断探索新型脱气膜技术在食品、乳品、饮料、微电子、冶金、化工、机械、环境等领域的新应用,为更多用户提供专业的气体分离解决方案。

相关新闻

新型脱气膜技术解决溶液脱气泡难题

据搜狐新闻6月24日讯,在众多工业生产和实验环节中,水溶液、溶剂体系及油墨中的气泡问题...

日期:2025-06-25 浏览次数:5048

国初科技开发超纯化学品脱除金属离子及脱气泡工艺

据今日头条6月20日讯,超净高纯化学品是微电子技术发展过程中不可缺少的关键基础化工材料...

日期:2025-06-20 浏览次数:208

国初科技大力推广啤酒酿造无氧碳酸水技术

据搜狐新闻6月12日讯,在啤酒酿造过程中,除糖化麦汁入发酵罐前需要进行充氧外,其他环节...

日期:2025-06-12 浏览次数:2690

利用新型除氧技术解决啤酒饮料用水脱氧难题

据搜狐新闻6月6日讯,啤酒饮料生产中,工艺用水的水质扮演了决定产品风味、色泽及保质期的...

日期:2025-06-09 浏览次数:144

利用新型除氧技术解决密闭式循环冷却水脱氧难题

据搜狐新闻网5月27日讯,在工业生产的众多领域,密闭循环冷却水系统扮演着至关重要的角色...

日期:2025-05-27 浏览次数:8262

国初科技应用新型分离技术解决溶剂脱水膜技术难题

据今日头条4月24日讯,在全球推崇碳中和的大环境下,化工、制药、食品等行业面临着巨大的...

日期:2025-04-24 浏览次数:4086